等离子蚀刻设备用陶瓷聚焦环

等离子蚀刻设备用陶瓷聚焦环

当选用铝合金作为蚀刻机腔室材料时,容易造成金属颗粒污染。因此,通常在铝合金表面阳极氧化一层致密的氧化铝阳极氧化层,以提高腔室材料的耐腐蚀性。然而,实际应用中发现,氧化铝阳极氧化层容易剥落。这主要是由于合金中的杂质发生偏析,导致氧化铝阳极氧化层表面容易产生微裂纹,从而降低了氧化铝阳极氧化层的使用寿命。因此,通常采用高纯度氧化铝陶瓷作为腔室材料。

作为一种耐等离子刻蚀的腔体材料,它具有以下特点。

(1)生产设备简单,自动化程度高,生产过程成本低。

(2)由于通常使用卤素气体对硅晶片进行高速刻蚀,铝容易与卤素反应生成挥发性Al-F副产物,污染晶片。

(3)随着金属杂质的加入,硬度和弯曲强度明显降低。

(4)在高温下,纳米晶体容易生长,导热系数降低。

(5)在梯度涂层中,分层效应加剧。

(6)它不能满足300mm以上蚀刻设备的要求。

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